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公開日:2016.11.17/更新日:2017.02. 3

【化粧品・パーソナルケア商品の分析】化粧品基準-配合制限成分(紫外線吸収剤)

配合制限成分 ~その3:紫外線吸収剤成分の配合制限~

1. 全ての化粧品に配合の制限がある成分

成  分  名

100g中の
最大配合量

サリチル酸ホモメンチル

10g

別名ホモサレート。サリチル酸の誘導体であり、メイクアップ系の化粧品(ファンデーション等)に使用されるケースがある。

2-シアノ-3,3-ジフェニルプロパ-2-エン酸2-エチルヘキシルエステル(別名オクトクリレン)

10g

波長290nmから350nmの紫外線を吸収し不溶性。光に対して比較的安定しており、耐水性の日焼け防止剤として用いられることがある。他の紫外線吸収剤ほど効果は高くないがその安定性を活かし、他の紫外線吸収剤と一緒に配合することで、他の紫外線吸収剤を保護する効果もある。

ジパラメトキシケイ皮酸モノ-2-エチルヘキサン酸グリセリル

10g

グリセリンの誘導体。ファンデーション等で使用されている。

パラアミノ安息香酸及びそのエステル

合計量として4.0g

ビタミンB複合体の1つであるが、現在はビタミンには分類されない。化粧品には紫外線吸収剤として使用されるが、米国ではFDAによって服用による効能・効果が認められている。

トリスビフェニルトリアジン

10.0g

UVAⅡ領域(320~340nm)も吸収でき、水相にも配合可。2016年6月1日に追加された新規紫外線吸収剤。

4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン

10g

主にUV-Aを吸収する吸収剤の1つ。UV-A吸収剤として最もよく使われている。360nm付近で吸収極大がある。水・アルコールに溶解しないが、油には僅かに溶解する。

2. 化粧品の種類により配合の制限のある成分

成 分 名

100g中の最大配合量(g)

説   明

粘膜に使用されることのない化粧品のうち洗い流すもの

粘膜に使用されることのない化粧品のうち洗い流さないもの

粘膜に使用されることがある化粧品

4-(2-β-グルコピラノシロキシ)プロポキシ-2-ヒドロキシベンゾフェノン

5.0

5.0

配合禁止

ベンゾフェノンの誘導体。日焼け止め、ネイルカラー、クリーム等幅広く使われている。

サリチル酸オクチル

10

10

5.0

サリチル酸と2-エチルヘキシルアルコールのエステル。主にUV-Bから肌を保護するために使われる紫外線遮断成分。

2,5-ジイソプロピルケイ皮酸メチル

10

10

配合禁止

紫外線吸収剤の1つ。

2-4[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]安息香酸ヘキシルエステル

10.0

10.0

配合禁止

354nmの吸収極大を持つ。光に対して安定的で、他のUV吸収剤や化粧品成分との相溶性を持っているとされている。

シノキサート

配合上限なし

5.0

5.0

淡黄色透明をした粘性の液である。皮膚刺激性があるとの報告もある。旧表示指定成分。

ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノン

10

10

配合禁止

表示名は、オキシベンゾン-6である。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤と同様に長波長領域の紫外線吸収能力を有している。旧表示指定成分。

ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノンジスルホン酸ナトリウム

10

10

配合禁止

表示名は、オキシベンゾン-9である。UVA域である333nmに吸収極大を持つ。旧表示指定成分。

ジヒドロキシベンゾフェノン

10

10

配合禁止

表示名は、オキシベンゾン-1である。UVBを吸収し肌の損傷を防ぐ働きがある。酸化チタンや酸化亜鉛などと組み合わせて、日焼け止め製品に配合されている。旧表示指定成分。

ジメチコジエチルベンザルマロネート

10.0

10.0

10.0

2005年に許可されたケイ皮酸系の紫外線吸収剤。名称の通り、シリコンを骨格としている。

1-(3,4-ジメトキシフェニル)-4,4-ジメチル-1,3-ペンタンジオン

7.0

7.0

配合禁止

紫外線吸収剤。

ジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオン酸2-エチルヘキシル

3.0

3.0

配合禁止

紫外線吸収剤。日焼け止めや乳液、化粧品下地等に配合されているケースがある。主にUVAを吸収する。

テトラヒドロキシベンゾフェノン

10

10

0.050

表示名は、オキシベンゾン-2である。長波長領域の紫外線吸収能力を有している。旧表示指定成分。

テレフタリリデンジカンフルスルホン酸

10

10

配合禁止

2006年にロレアルが開発した紫外線吸収剤。カバーしている波長領域は、スペック上296nm~390nm。

2,4,6-トリス[4-(2-エチルヘキシルオキシカルボニル)アニリノ]-1,3,5-トリアジン

5.0

5.0

配合禁止

表示名は、エチルヘキシルトリアゾン。UVB域に吸収極大を持つ紫外線吸収剤。

トリメトキシケイ皮酸メチルビス(トリメチルシロキシ)シリルイソペンチル

7.5

7.5

2.5

エモリエント効果(皮膚からの水分蒸散を防止してうるおいを保持し,皮膚を柔軟にするという皮膚生理作用)を持つ紫外線吸収剤。

ドロメトリゾールトリシロキサン

15.0

15.0

配合禁止

UVA領域に効果がある紫外線吸収剤。ベンゾトリアゾール骨格を有している。2002年に認可。商標名メギゾリルXL。

パラジメチルアミノ安息香酸アミル

10

10

配合禁止

パラジメチルアミノ安息香酸とアミルアルコールとのエステル。海外では、スペクトラバンウルトラという名称で配合されておりUVB領域に効果がある。

パラジメチルアミノ安息香酸2-エチルヘキシル

10

10

7.0

紫外線吸収剤。かつてはよく使用されていたが、発癌性物質(ニトロサアミン)が生成される可能性がアメリカで報告され、近年使用量が減少。

パラメトキシケイ皮酸イソプロピル・ジイソプロピルケイ皮酸エステル混合物1

10

10

配合禁止

紫外線吸収剤。

パラメトキシケイ皮酸-エチルヘキシル

20

20

8.0

表示名は、メトキシケイヒ酸エチルヘキシル。UVB領域に効果がある。油溶性。日本では代表的な紫外線吸収剤。

2,4-ビス-[{4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ}-フェニル]-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン

3.0

3.0

配合禁止

紫外線吸収剤。ヘアーコンディショニング剤に配合されるケースがある。溶解度が低く、結晶化しやすい。

2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン

配合上限なし

5.0

5.0

表示名は、オキシベンゾン-3である。紫外線吸収剤。旧表示指定成分。

ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸及びその三水塩

102

103

0.104

表示名は、オキシベンゾン-4である。紫外線吸収剤。旧表示指定成分。

ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム

10

10

1.0

表示名は、オキシベンゾン-5である。紫外線吸収剤。旧表示指定成分。

フェニルベンズイミダゾールスルホン酸

3.0

3.0

配合禁止

主にUVB領域に効果のある紫外線吸収剤。

フェルラ酸

10

10

配合禁止

植物由来の紫外線吸収剤。抗菌・美白効果もあるとされている。

2,2'-メチレンビス(6-(2Hベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール

10.0

10.0

配合禁止

紫外線吸収剤。

1パラメトキシケイ皮酸イソプロピル72.0~79.0%、2-4-ジイソプロピルケイ皮酸エチル15.0~21.0%及び2,4-ジイソプロピルケイ皮酸メチル3.0~9.0%を含有するものをいう。

2ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸としての合計量とする。

3ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸としての合計量とする。

4ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸としての合計量とする。

※それぞれの成分の説明は、あくまで参考情報です。内容については、十分注意の上、作成しておりますが、その信憑性・正確性を保証するものではありません。本情報の利用に関しては、御自身でご判断下さいますようお願い致します。本情報に起因する損害がお客様に生じた場合でも、弊機構はその責任を負いません。

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