CLOSE

カテゴリー外

アウトガス分析(材料等から発生する低分子シロキサンの測定)

目的

製品を構成する材料や梱包材などから放散されるガス成分をアウトガスといい、製品に不具合を起こす原因となります。シリコーンは化粧品、食器、工業材料、建築材料など様々な用途で使用されていますが、シリコーン由来のガス(シロキサンガス)が電子部品などに付着すると接点不良などの異常を起こすことが知られています。
ボーケンでは材料から発生する低分子シロキサン(D3~D6)について測定実施可能となりました。

シロキサンとは

Si-O-Si結合(シロキサン結合)を持つ化合物の総称で、低分子シロキサンの定義として、重合した分子数が20個(D20)までのものを指すと言われています。環状シロキサンD4、D5、D6はREACH規制の高懸念物質(SVHC)の規制対象となっています。

測定対象

環状シロキサン3量体~6量体(D3~D6)

対象アイテム

半導体関連部材

試験条件

1.前処理条件(ご相談に応じます)

加熱温度40℃
チャンバー容量20 L

2.サンプリング条件

換気回数0.5回/h
温度28℃
湿度50%

分析方法

SHS(スタティックヘッドスペース法)
試験体をいれたチャンバーを加熱し、発生したガスを吸着管に採取し、GC/MSで分析を実施します。